AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfigurationen umfassen Schleusenkammern, Transferkammern und Prozessmodule für Sputter- und RIE-Prozesse.
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguratione...
komplette Systeme für die Behandlung von und Beschichtung auf Oberflächen mittels Plasmaprozessen
Aktivierung, Reinigung und Ätzen mit Atmosphärendru...
Vakuumrezipienten wahlweise aus Aluminium oder Edelstahl, Vakuumpumpen in korrosiv-gasfester Ausführung inkl. Ölnebelabscheider mit Ölrückführung, bis...
Kompakte Systeme, minimale Stellfläche - Hohe Plasmadichten für kurze Prozesszeiten - Optimierte Homogenität durch Plasma-Array mit 2-dimensionalem Ga...
Max. 4 Gasfluss-Controller mit einem Durchfluss von bis zu 500 sccm pro Controller, Netzanschluss: 3/N/PE AC 400/230V, Kammervolumen: 30 l, Abmessunge...
KIVOS ist ein sehr flexibles, modulares Konzept für Plasmasysteme.
Diese Systeme sind in den verschiedensten Anwendungsbereichen wie zum Beispiel Fe...
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrattransport unter Vakuum an.
Die erhältlichen Konfiguratione...
komplette Systeme für die Behandlung von und Beschichtung auf Oberflächen mittels Plasmaprozessen
Aktivierung, Reinigung und Ätzen mit Atmosphärendru...
Vakuumrezipienten wahlweise aus Aluminium oder Edelstahl, Vakuumpumpen in korrosiv-gasfester Ausführung inkl. Ölnebelabscheider mit Ölrückführung, bis...
Kompakte Systeme, minimale Stellfläche - Hohe Plasmadichten für kurze Prozesszeiten - Optimierte Homogenität durch Plasma-Array mit 2-dimensionalem Ga...
Max. 4 Gasfluss-Controller mit einem Durchfluss von bis zu 500 sccm pro Controller, Netzanschluss: 3/N/PE AC 400/230V, Kammervolumen: 30 l, Abmessunge...
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